紫外曝光機(jī)，也稱光刻機(jī)、掩模對(duì)準(zhǔn)曝光機(jī)、曝光系統(tǒng)、光刻系統(tǒng)等，是印刷線路板（PCB）制作工藝中的重要設(shè)備。
一般的光刻工藝要經(jīng)歷硅片表面清洗烘干、涂底、旋涂光刻膠、軟烘、對(duì)準(zhǔn)曝光、后烘、顯影、硬烘、刻蝕等工序。
其主要性能指標(biāo)有：支持基片的尺寸范圍，分辨率、對(duì)準(zhǔn)精度、曝光方式、光源波長(zhǎng)、光強(qiáng)均勻性、生產(chǎn)效率等。
紫外曝光機(jī)鏡片 系統(tǒng)組成及其工作原理：
傳統(tǒng)曝光機(jī)光學(xué)系統(tǒng)主要由光源（高壓球形汞燈）、橢球面反光杯、冷光鏡、透射式復(fù)眼光學(xué)透鏡陣列、二向色鏡和球面平行光反射鏡組成。
其中，光刻機(jī)內(nèi)部的反射鏡會(huì)積聚來(lái)自 EUV 光源的錫碎屑。光源發(fā)出的光被橢球面反光杯聚焦后，經(jīng)冷光鏡反射到復(fù)眼透鏡陣列場(chǎng)鏡，從投影鏡出射的光到達(dá)二向色鏡，
光譜中的紫外部分被50%透射，50%反射后，到達(dá)兩塊對(duì)稱分布的大面積球面平行反光鏡，被準(zhǔn)直反射到曬板上對(duì)PCB板進(jìn)行曝光。
“EUV光刻機(jī)的光源是極紫外光，所以其實(shí)際上叫做極紫外線光刻機(jī)。而蔡定平教授團(tuán)隊(duì)研發(fā)的新型真空紫外非線性超構(gòu)透鏡，能夠產(chǎn)生和聚焦極紫外光，并能夠?qū)⒉ㄩL(zhǎng)395nm轉(zhuǎn)化為197nm 。聚焦光點(diǎn)的功率密度比超構(gòu)透鏡高了21倍?！?/h4>
據(jù)悉，這一突破能夠應(yīng)用于EUV光刻機(jī)之中，幫助國(guó)產(chǎn)光刻機(jī)突破技術(shù)瓶頸。并且，這一技術(shù)還屬于EUV光刻機(jī)的核心技術(shù)，對(duì)實(shí)現(xiàn)EUV光刻機(jī)自主有重大意義。
更多“紫外曝光機(jī)”光學(xué)知識(shí)，歡迎大家一起探討及補(bǔ)充~！感謝閱讀分享~！
紫外曝光機(jī)、光刻機(jī)會(huì)使用到的光學(xué)元件包含：光學(xué)透鏡、光學(xué)棱鏡、TIR棱鏡、光棒、濾光片、衰減片、反射鏡。
歡迎各位光學(xué)同仁前來(lái)詢價(jià)，激埃特光電至今已經(jīng)有15年加工生產(chǎn)經(jīng)驗(yàn)，是中高端光學(xué)元件源頭廠家，
3家工廠分別位于，遼寧鞍山、深圳、南京，公司技術(shù)實(shí)力雄厚，
研發(fā)工程技術(shù)團(tuán)隊(duì)，技術(shù)成熟，經(jīng)驗(yàn)豐富，
百級(jí)無(wú)塵凈化車間，精密加工環(huán)境管控嚴(yán)格，
多種拋光設(shè)備，檢測(cè)設(shè)備，進(jìn)口鍍膜設(shè)備等。
可以全方位滿足您對(duì)光學(xué)元件及應(yīng)用領(lǐng)域多種定制需求。
歡迎您來(lái)我廠實(shí)地考餐參觀~！
