光學(xué)體系效果：改變光線的傳達(dá)方向。
組成：不一樣曲面形狀的和不一樣介質(zhì)(玻璃，晶體等)的光學(xué)零件——反射鏡，透鏡，棱鏡。正透鏡：會聚光
舉例：望遠(yuǎn)鏡光學(xué)體系，顯微鏡
理論：光線和波面的傳達(dá)規(guī)則
抱負(fù)體系：點(diǎn)對點(diǎn)，直線成像為直線，平面成像為平面。
對稱共軸抱負(fù)體系其它性質(zhì)
(1)光軸上的物點(diǎn)，像點(diǎn)也在光軸上。(2)過光軸的截面內(nèi)的物點(diǎn)，與其像共面。(3)過光軸的恣意截面性質(zhì)都是一樣的。(4)垂直于軸的平面，同一面內(nèi)具有一樣的放大率。(5)由已知條件斷定抱負(fù)光學(xué)體系的成像性質(zhì)：已知兩對共軛面方位及放大率;或已知一對共軛面方位及放大率，再加上光軸上的兩對共軛點(diǎn)。
共軛面：一對物象面，且垂直于光軸。物像對應(yīng)聯(lián)系叫做“共軛”。
基面和基點(diǎn)：通常將這些已知的共軛面和共軛點(diǎn)別離稱為共軸體系的“基面”和“基點(diǎn)”。
作圖法證實(shí)[1]：
①已知兩對共軛面的方位和放大率
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圖1
②已知一對共軛面的方位和放大率，以及軸上兩對共軛點(diǎn)的方位
圖2
有關(guān)名詞
共軸體系，非共軸體系;光軸;球面體系;共軸球面體系;放大率;物像聯(lián)系。
要害規(guī)劃參量
一、漸暈
光學(xué)體系通常存在30%~40%的漸暈。假如來自視場中各點(diǎn)的光束徹底充溢孔徑光闌而不被光闌周圍的孔徑所遮擋，則體系沒有漸暈。
二、視場光闌
實(shí)際上，全部光學(xué)體系的入瞳總有必定巨細(xì)，有時(shí)乃至很大，因而大多數(shù)情況下，某軸外物點(diǎn)的主光線雖不能經(jīng)過入窗，但該物點(diǎn)發(fā)出的一部分可經(jīng)過入窗進(jìn)入體系。可以約束大多數(shù)光線(平行于軸)空間場的面叫視場光闌。
視場光闌經(jīng)過其前面的光學(xué)體系于物空間所成的像為入窗。斷定視場光闌的方法是：把體系中除孔徑光闌以外的一切光闌經(jīng)過其前面的光組成像，入瞳中心所對張角最小的像所對應(yīng)的為視場光闌。在物空間，邊際主光線與光軸間夾角稱為物方半視場角，其巨細(xì)是入瞳中心所對入窗張角的一半。與視場共軛的像平面的范圍為像場。關(guān)于矩形探測器，像面最大不能超過像場(通常為圓形)的內(nèi)接矩形，即像面對角線應(yīng)等于像場的直徑。
三、消雜光闌
光學(xué)體系的雜光有非成像物體入射的輻射，也有光學(xué)零件、機(jī)械零件反射和散射的輻射。雜光源大多數(shù)處在儀器以外，因而應(yīng)合理操控鏡筒內(nèi)壁的外表反射。常用的方法是鏡筒壁車螺紋并噴褐色無光漆或加雜散光擋板。
消雜光闌斷定的原則如下：
1.探測器探測到的場景越大，則它承受的漫散射就越多，所以擋光罩和透鏡鏡筒應(yīng)盡也許遠(yuǎn)離物場。
2.來自黑外表的多重反射能消除漫散射，能阻撓任一光線反射到探測器。
3.當(dāng)光罩尖利的邊際會導(dǎo)致光衍射，所以擋光罩的孔徑要調(diào)節(jié)，后邊的擋光罩內(nèi)徑應(yīng)略小。[2]
規(guī)劃進(jìn)程
光學(xué)體系的規(guī)劃過程通常請求如下：
1.依據(jù)運(yùn)用請求擬定合理的技術(shù)參數(shù)。從滿意運(yùn)用請求的程度動(dòng)身，擬定光學(xué)體系合理的技術(shù)參數(shù)。
2.光學(xué)體系總體規(guī)劃和規(guī)劃。
3.光學(xué)部件(光組、鏡頭)的規(guī)劃。通常分為選型、斷定初始構(gòu)造參數(shù)、像差校對3個(gè)階段。
4.長光路的拼接與統(tǒng)算。以總體規(guī)劃為依據(jù)，以像差評估為繩尺，來進(jìn)行長光路的拼接與統(tǒng)算。假如成果不合理，則應(yīng)重復(fù)試算并調(diào)整各光組的方位與構(gòu)造，直至抵達(dá)預(yù)期的方針。
5.光學(xué)體系的公役擬定。非配整個(gè)體系中一切光關(guān)顧額原件和光學(xué)機(jī)械原件及尺度的加工公役，進(jìn)行公役核算，保證體系以合理的本錢完成所請求的光學(xué)功能。
在擬定光學(xué)體系公役的進(jìn)程中，需要給體系中一切的光學(xué)元件和光學(xué)機(jī)械原件分配公役，包括一切的透鏡和反射鏡以及直接或直接支持光學(xué)原件的機(jī)械元件。體系的總方針是在滿意光學(xué)功能的請求的前提下，使光學(xué)原件的本錢、裝諧和校準(zhǔn)的本錢抵達(dá)最低。擬定光學(xué)體系公役的過程如下：
1.為一切光學(xué)元件和機(jī)械元件分配可變公役;
2.選擇調(diào)整參數(shù)，如后截距等;
3.公役的靈敏度剖析;
4.從頭估量公役，查看是不是有改變;
5.增加其他不能被程序模仿的公役的影響;
6.估計(jì)總的體系功能并進(jìn)行差錯(cuò)核算;
7.加嚴(yán)對體系靈敏參數(shù)的公役，放寬非靈敏參數(shù)的公役，并核算功能;
8.重復(fù)過程7直至以合理的開支滿意體系功能;
9.假如體系功能不能完成，則進(jìn)行從頭規(guī)劃。
