ZnSe晶體屬面心立方結(jié)構(gòu)，其光率體橢球?yàn)橐粋€(gè)球體，在光學(xué)上表現(xiàn)為各向同性。它具有優(yōu)異的物理與化學(xué)性質(zhì)，可用于制造藍(lán)光半導(dǎo)體激光器、光探測(cè)器件、非線性光學(xué)器件、波導(dǎo)調(diào)制器等；同時(shí)，作為優(yōu)秀的紅外材料，透過波長(zhǎng)為O．5～22“m，特別在10．6肛m處有極好的透過率，是紅外透鏡、激光窗口、紅外熱像儀和高功率CO。激光器應(yīng)用的首選材料。這些應(yīng)用帶動(dòng)了znSe晶體加工技術(shù)的發(fā)展并對(duì)其加工提出愈來愈高的要求，作為紅外材料使用，在加工中要保證其表面光潔度和良好的透過率。
znse透鏡的基本參數(shù)和技術(shù)要求圖1為ZnSe晶體的透過率曲線。由1圖可知，znSe晶體具有極好的光學(xué)特性，能透過可見和紅外光，尤其在紅外光譜區(qū)具有高而均勻的光學(xué)透過率。表1給出了ZnSe晶體的折射率砣隨波長(zhǎng)A的變化，ZnSe晶體的折射率溫度系數(shù)低，適用于制作多光譜應(yīng)用中的光學(xué)元件。
圖1?ZnSe晶體的透過曲線
? ? ? ? 表l ZnSe晶體折射率隨波長(zhǎng)的變化
?晶體研磨對(duì)透鏡偏心及光潔度的影響
磨盤材料選用鑄鐵，采用數(shù)控車床加工，很好地控制了其面形精度。在進(jìn)行粗細(xì)磨工序前，應(yīng)先將R一140?mm面半徑加工好，加工時(shí)中心磨到即可。盡量少去厚度或不去厚度，而且要注意偏心，偏心量大致不應(yīng)超過0．20～o．30?mm。
拋光對(duì)零件表面光潔度的影響
ZnSe晶體的拋光是機(jī)械、物理和化學(xué)作用的共同結(jié)果。在拋光過程中，拋光劑具有2種作用，即機(jī)械作用與膠體化學(xué)作用，這2種作用是同時(shí)出現(xiàn)的。在拋光的初始階段，是拋光劑去除表面凹凸層的過程，因而呈現(xiàn)出新的拋光面，這時(shí)主要是靠機(jī)械作用。但呈現(xiàn)出新的拋光面以后，拋光劑顆粒開始與材料表面進(jìn)行分子接觸，由于拋光劑具有一定的化學(xué)活性，即具有強(qiáng)烈的晶格缺陷(實(shí)踐證明，具有晶格缺陷的拋光劑的拋光效率是比較高的)，晶格缺陷處的各質(zhì)點(diǎn)的結(jié)合能量比較大，易于通過化學(xué)吸附作用把材料表面分子吸附出來，在拋光劑與材料表面分子接觸中材料即被拋光。
加工過程中需要注意的問題
嚴(yán)格說來，晶體加工是一種有害作業(yè)，因此，應(yīng)該重視加工者的健康防護(hù)問題。防護(hù)上大體可以采
取以下措施：
(1)有毒晶體的加工應(yīng)集中在有良好通風(fēng)排毒設(shè)備的專門房間里，機(jī)床工作臺(tái)應(yīng)有防護(hù)罩和排風(fēng)扇。
(2)為了減少或消除毒物對(duì)人體的傷害，工作之后必須認(rèn)真洗手，用刷子將雙手仔細(xì)擦洗干凈。
(3)嚴(yán)禁在有毒的工作間內(nèi)吸煙、進(jìn)食，要定時(shí)呼吸新鮮空氣。
加工中采用雙氧水溶劑浸泡Al。O。拋光劑，軟化了AlzO。磨料，大大提高了拋光零件的表面質(zhì)量，取得了較為理想的效果。同時(shí)，為整盤等厚加工設(shè)計(jì)制作的工具既簡(jiǎn)單可靠，又保證了零件的精度。
